Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-3

簡要描述：Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-3
飛秒應用的激光鏡被設計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。鍍膜是單層電介質，在工作波長范圍內(nèi)沒有相移。

產(chǎn)品品牌：Eksma
廠商性質：代理商
更新時間：2021-03-17
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LAYERTEC非球面光學元件介紹

詳細介紹

品牌	Eksma	價格區(qū)間	面議
組件類別	光學元件	應用領域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合

Eksma FEMTOLINE 低色散超快反射鏡-3

飛秒應用的激光鏡被設計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。

產(chǎn)品介紹

飛秒應用的激光鏡被設計為具有較寬的工作波長范圍和線性相位-頻率特性（低群延遲色散（GDD））。鍍膜是單層電介質，在工作波長范圍內(nèi)沒有相移。

對于相同的電介質鍍膜，對于S偏振，高反射率反射鏡始終具有更高的反射率，更寬的工作區(qū)域和更低的脈沖失真。如果可能，請使用帶有S偏振光束的反射鏡。

我們的標準反射鏡適用于基本的Ti：Sapphire和Yb：KGW / KYW激光器及其兩倍，三倍或四倍的頻率。推薦用于在UV區(qū)工作的高功率激光應用。

EKSMA OPTICS是激光，激光系統(tǒng)和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。我們的激光組件可在科學，工業(yè)，醫(yī)學，美學，軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。波長范圍從紫外（193 nm）到可見光（VIS）到紅外（20μm）以及太赫茲（THz）范圍的激光光學組件的應用范圍。
EKSMA Optics是高功率激光應用，激光介質和非線性頻率轉換晶體，光機械，帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統(tǒng)的制造商和供應商，它們用于激光器和其他應用光學儀器。
EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業(yè)務，其基礎是在激光和光學領域的長期專業(yè)知識。

公司擁有：?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割，研磨和拋光設備。 nonlinear可根據(jù)要求提供非線性和電光晶體LBO，BBO，KDP，DKDP，KTP，AgGaSe2，ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡（包括軸錐）的研磨和拋光設備。在我們的鏡頭生產(chǎn)工廠中，鏡頭由N-BK7，S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的，超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO，DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

我們的激光組件工作在從UV（193 nm）到VIS到IR（20μm）的光譜范圍內(nèi)，并在太赫茲（1-5 THz）范圍內(nèi)工作，可在科學，工業(yè)，醫(yī)學和美學領域的不同激光和光子學應用中使用，軍事和航空航天市場。

EKSMA光學拋光設備專門從事由BK7，UVFS，Infrasil，Suprasil，CaF2以及DKDP，KDP，LBO，BBO，ZnGeP2晶體制成的平面光學器件的加工和終拋光，而大功率激光應用需要高質量的精密拋光面。該公司還擁有的IBS涂層設備，球面，軸錐和非球面鏡片CNC制造設備，BBO，DKDP和KTP Pockels電池裝配用的潔凈室設備，超快電光脈沖拾取系統(tǒng)制造技術部門和質量控制設備。

公司提供的所有組件均經(jīng)過質量控制實驗室的高質量測試和認證。

該公司可根據(jù)客戶的圖紙和規(guī)格提供定制的光學和晶體組件。但是，我們還提供了廣泛的標準目錄產(chǎn)品，可以快速實現(xiàn)現(xiàn)成的交付。

產(chǎn)品型號

1000-1060 nm

型號	波長	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2
031-1030	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 3 mm	45°	99.5%
031-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 3 mm	0°	99.7%
031-1030T6	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 6 mm	45°	99.5%
031-1030T6-i0	1000-1060 nm	BK7	ø12.7 x 6 mm	0°	99.7%
032-1030	1000-1060 nm	BK7	ø25.4 x 6 mm	45°	99.5%
032-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø25.4 x 6 mm	0°	99.7%
035-1030	1000-1060 nm	BK7	ø50.8 x 8 mm	45°	99.5%
035-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø50.8 x 8 mm	0°	99.7%
037-1030	1000-1060 nm	BK7	ø76.2 x 12.7 mm	45°	99.5%
037-1030-i0	1000-1060 nm	BK7	ø76.2 x 12.7 mm	0°	99.7%
041-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 3 mm	45°	99.5%
041-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 3 mm	0°	99.7%
041-1030T6	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.5%
041-1030T6-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.7%
041-1030T6HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	45°	99.9%
041-1030T6HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø12.7 x 6 mm	0°	99.9%
042-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.5%
042-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.7%
042-1030HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.9%
042-1030HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.9%
045-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 8 mm	45°	99.5%
045-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 8 mm	0°	99.7%
045-1030T12HHR	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	45°	99.9%
045-1030T12HHR-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø50.8 x 12 mm	0°	99.9%
047-1030	1000-1060 nm	UV FS	ø76.2 x 12.7 mm	45°	99.5%
047-1030-i0	1000-1060 nm	UV FS	ø76.2 x 12.7 mm	0°	99.7%

1400-1700 nm

型號	波長	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2
082-1417	1400-1700 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.0%
082-1417-i0	1400-1700 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°	99.0%

1900-2120 nm

型號	波長	材料	尺寸	AOI	R, % (S+P)/2
082-1921	1900-2120 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	45°	99.8%
082-1921-i0	1900-2120 nm	UV FS	ø25.4 x 6 mm	0°

基材

材料	UV級熔融石英或BK7玻璃
S1表面平整度	633 nm時為λ/ 10
S1表面質量	20-10表面光潔度（MIL-PRF-13830B）
S2表面質量	簡單拋光
直徑公差	+0.00 mm-0.12 mm
厚度公差	±0.25
楔	<3 min
倒角	在45°典型值為0.3mm

鍍膜

技術	電子束多層電介質或離子束濺射
附著力和耐久性	符合MIL-C-675A。不溶于實驗室溶劑
通光孔徑	超過中心直徑的85％
鍍膜	硬電介質高反射率R> 99.5％
專為平均偏振而設計	R =（Rs + Rp）/ 2
激光損傷閾值	> 100 mJ / cm2，50 fsec，50 Hz，800 nm典型
鍍膜表面平整度	透明孔徑下633 nm處的λ/ 10
入射角	0或45±3度